ANSYS高斯脉冲激光光源温度场模拟APDL

ANSYS高斯脉冲激光光源温度场模拟APDL

2020年3月20日 2020年3月20日 685
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ANSYS高斯脉冲激光光源温度场模拟APDL的课程说明

  本实例介绍在一个高斯脉冲激光光源温度场的模拟,包含了脉冲激光的apdl程序,高斯光源的APDL程序,以及随温度变化的材料参数设置,apdl程序为参数化建模,只需修改相应的数据,即可更换模型参数。 视频只是展示用,apdl程序看我发布的帖子。初次使用,不会用,只能这种办法。

下层基板:长1000微米,宽300微米,高300微米;上层板材:长1000微米,宽300微米,厚30微米。

激光照射上层板材,由宽度方向的中点进入,沿长度方向直线扫描一道,到另一边中点结束

激光为普通高斯光源,形式为脉冲激光,如图3,其中激光频率=1/TCycle, 占空比=TPulse/TCycle 

在模拟的过程中要实现激光功率,扫描速度,激光频率和占空比的可变。求得上层板材中心位置温度随时间的变化曲线

1. 温度场只考虑传热,不考虑对流以及辐射,环境温度为室温25摄氏度。

2. 材料的各项参数不是固定参数,而是随温度变化的参数。


激光参数:

光斑直径:100微米

激光功率:200W  

扫描速率v=800mm/s 

占空比ra=0.5 

激光频率f=20000Hz 

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以下为中间过程中的温度场

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