线上培训 | 第12期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制 》招生中

武汉墨光即将在11月07日-11日推出第十二期《ASAP 光学系统软件杂散光分析与控制》线上培训。为了方便大家更加了解本次培训的课程内容,以下是本次研讨会的课程大纲及详情介绍:


培训大纲:
  • 杂散光术语

  • 辐射度学基础

  • 杂散光成因

  • 杂散光影响、杂散光控制

  • 杂散光分析、评价方法、分析软件对比

  • ASAP 杂散光分析流程、步骤:关键表面和照明表明

  • 散光特性、散射模型

  • 消光漆/表面处理

  • 光学表面污染

  • 散射特性测量仪对比、重点区域采样

  • 衍射杂散光、

      PST 分析:衍射元件的杂散光分析

      小孔衍射的杂散光分析

  • 鬼像分析、光学设计中的杂散光控制

  • 遮光罩和挡光环设计、自身热辐射分析

  • 杂散光计算器、扩展面源杂散光分析

  • 散射特征测试介绍、PST 测试介绍、光陷阱


培训书籍:
线上培训 | 第12期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制 》招生中的图1
报名培训即可免费赠送此书

培训详情:
本培训为线上直播培训
培训内容作业练习跟踪,老师答疑
培训结束后支持录播回放观看(限期30天)
培训方安装最新正版软件(仅限培训期间使用)
为保证课程质量,课程均采用小班授课模式

举办单位:武汉墨光科技有限公司
培训日期:11月07-11日  14:00-17:00
培训费用:2980元/人(10月16日前报名享八五折优惠)
报名咨询请扫描下方“二维码”或点击文末“阅读原文”即可。

线上培训 | 第12期《 ASAP 光学系统杂散光分析与控制 》招生中的图2

注:如报名人数未达到最低开课人数,武汉墨光将酌情调整或延期开设本门课程。

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