三星电子、SK海力士已向ASML下单可用于2nm工艺的High NA EUV曝光设备

CINNO Research产业资讯，韩国半导体厂商三星电子和SK海力士已向荷兰阿斯麦公司（ASML）订购了新一代半导体设备“High NA”极紫外线(EUV)曝光设备。继台积电（TSMC）和英特尔（Intel）之后，韩国半导体制造商也即将导入可以实现2nm工艺生产的设备，预计最尖端的半导体工艺领域的竞争将越来越激烈。

根据韩媒ETNews报道，ASML在19日的业绩公告中表示：“对于EUV High NA业务，随着获取新的Twin Scan EXE:5200设备订单，目前所有的EUV客户都已下单了High NA的设备产品。”High NA EUV设备是将表示光的集光能力的镜头开口数(NA)从0.33提高到0.55的设备。与现有EUV设备相比，High NA EUV设备可以绘制出更细微的半导体电路。因此业内普遍认为，要实现2nm工艺，High NA设备是必须的。

英特尔和台积电已经正式表明导入High NA EUV设备。英特尔去年以重新进入Foundry市场为契机，发布综合半导体企业(IDM 2.0)战略时曾称，公司最先采购了High NA EUV设备。这是为了先发制人地导入新一代设备，追赶台积电和三星电子的系统半导体生产能力。此后，台积电也宣布已签订High NA EUV设备采购合同，但三星电子和SK海力士方面对于设备采购合同的签订却闭口不言。此次ASML的发布，实际上正式公开了韩国半导体厂商导入了High NA设备。但是三星电子和SK海力士方面表示，导入High NA EUV设备是“无法公开声明的问题”。ASML现有的EUV设备客户主要包括三星电子和SK海力士、英特尔、台积电和Micro等。

随着全球半导体制造厂商全部向ASML下了 High NA EUV设备订单，预计从大规模量产开始的2025年起，将展开激烈的竞争。High NA EUV设备虽然比目前使用的EUV设备价格高，但因能够一次性实现超细微工艺(单次平移)，从而可大幅提升生产效率。特别是三星电子在3nm工艺量产后，为了量产2nm工艺，也有必要主动确保High NA EUV设备。据推测，现有的EUV设备价格为2000亿至3000亿韩元（约10~15亿人民币），而High NA EUV设备价格高达5000亿韩元（约25亿人民币）。

根据ASML在当天发布的第三季度经营业绩，公司实现净销售额58亿欧元，毛利率为51.8%，当期净利润为17亿欧元。预计第四季度净销售额为61亿至66亿欧元。

ASML首席执行官（CEO）兼总裁Peter Wennink称：“由于包括通货膨胀、消费者信心指数下跌、经济衰退风险等多个全球宏观经济的忧虑问题，存在市场不确定性，虽然感知到不同市场的不同需求变化，但整体上ASML的系统需求仍然强劲“，并称“在此情况下，第三季度High NA系统等EUV设备销售额达到38亿欧元，最大季度预订销售额约89亿欧元。”

ASML的High NV EUV设备开发路线图

- END -

推荐阅读

点击图片即可阅读全文

更多商务合作，欢迎与小编联络！

扫码请备注：姓名+公司+职位

我是CINNO最强小编, 恭候您多时啦！

CINNO于2012年底创立于上海，是致力于推动国内电子信息与科技产业发展的国内独立第三方专业产业咨询服务平台。公司创办十年来，始终围绕泛半导体产业链，在多维度为企业、政府、投资者提供权威而专业的咨询服务，包括但不限于产业资讯、市场咨询、尽职调查、项目可研、管理咨询、投融资等方面，覆盖企业成长周期各阶段核心利益诉求点，在显示、半导体、消费电子、智能制造及关键零组件等细分领域，积累了数百家大陆、台湾、日本、韩国、欧美等高科技核心优质企业客户。