Zemax光学设计技术教程:共轴理想光学系统特性

今天为大家介绍一下光学设计的基础——共轴理想光学系统特性,欢迎大家学习一下!

Zemax光学设计技术教程:共轴理想光学系统特性的图1

(1) 位于光轴上的物点对应的共轭像点必然位于光轴上;位于过(包含)光轴的某一个截面内的物点对应的共轭像点必位于同一平面内;同时, 过(包含)光轴的任意截面成像性质都是相同的。可用一个过(包含)光轴的截面来代表一个共轴系统。垂直于光轴的物平面, 它的共轭像平面也必然垂直于光轴。

Zemax光学设计技术教程:共轴理想光学系统特性的图2

(2) 垂直于光轴的平面物所成的共轭平面像的几何形状完全与物相似,在整个垂轴物平面上无论那一部分, 物和像的大小比例等于常数(横向放大率)。

Zemax光学设计技术教程:共轴理想光学系统特性的图3

(3) 一个共轴理想光学系统, 如果已知两对共轭面的位置和横向放大率; 或者一对共轭面的位置和横向放大率, 以及轴上的两对共轭点的位置, 则所有其它物点的像点都可以根据这些已知的共轭面和共轭点来表示。

Zemax光学设计技术教程:共轴理想光学系统特性的图4

Zemax光学设计技术教程:共轴理想光学系统特性的图5

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Zemax光学设计技术教程:共轴理想光学系统特性的图6

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