传三星计划投资557亿元用于采购ASML EUV 光刻机

11月15日消息，韩国今日电子新闻报道称，三星计划进口更多ASML极紫外（EUV）光刻设备。

虽然由于合同中的保密条款未能披露具体细节，但证券市场消息称，该协议将使ASML在五年内提供总共50套设备，而每台单价约为2000亿韩元（约合人民币11.02亿元），总价值可达10万亿韩元（约合人民币551亿元）。

目前尚不清楚其合同中的产品是现有EUV光刻设备还是下一代“High NA EUV”光刻设备。不过，目前EUV光刻设备最大的问题是产量有限。据官方介绍，它“比卫星部件还复杂”，每年只能生产很有限的数量。据说去年是40台，今年ASML估计是60台。而目前需要且能购买到EUV光刻设备的厂商有五家：三星电子、台积电、英特尔、SK海力士和美光。其中，台积电约占供应量的70%，剩下四家公司争夺剩下的30%。

三星电子于去年6月推出了全球首个采用全栅极（GAA）技术的3nm代工技术，因此该公司一直在努力确保采购更多EUV光刻设备，目标是在明年上半年进入3nm世代的第二代工艺，在2025年进入2nm工艺，在2027年进入1.4nm工艺。

正因如此，李在镕董事长去年6月访问了ASML总部，与首席执行官Peter Bennink讨论了EUV采购问题，并在同年11月访问韩国期间与Bennink进行了进一步会谈。鉴于EUV的交付周期（从下单到收货）至少需要一年，这些会议看起来确实取得了实际成果。

实际上，半导体领域分析师也对三星电子增购EUV光刻设备的计划持积极态度。

祥明大学系统半导体工程教授Lee Jong-hwan说道：“三星已引进数十台EUV光刻设备，据说每台设备的成本约为2000亿韩元，这表明该公司打算扩大3nm量产机会，并在未来实现2nm计划。”

此前，三星电子宣布计划到2025年拥有100台EUV光刻机。市场估计三星目前的EUV机群约为40台。如果这50台设备的能够顺利交付，那么三星到 2028 年将能够拥有约 100 台设备。

荷兰应用科学研究所（TNO）韩国代表Byung-hoon Park解释称说：“通常情况下，半导体工艺可以将每台机器的10%用于工艺研发和测试，拥有100台机器则意味着它们可以全天候用于研发。”

他还指出，“通过这样做，我们将能够确保有足够的工艺能力来正确使用设备”，他补充说，“ 预计这将减少工艺过程中的时间和成本，并提高产量。”

“一旦我们拥有了大量的（EUV）设备，并且技术趋于稳定，我们将能够提高产量，并在代工方面取得进展” ，工业研究所的专家研究员金阳邦（Kim Yang-pang）说。

季度全球半导体装备行业市场分析报告（大纲）

一、全球半导体装备企业市场规模分析（Top10）

二、中国大陆半导体装备行业市场投资情况分析

1. 中国大陆半导体装备行业季度投资规模分析

2. 中国大陆半导体装备行业季度投资区域分析  

3. 中国大陆半导体装备行业季度投资分布分析

三、全球半导体装备行业新技术发展洞察

1. 全球半导体装备行业细分领域新技术趋势洞察

2. 中国大陆半导体装备行业细分领域技术发展洞察

四、全球半导体行业装备产业最新动态

媒体关系：

市场部经理  Cherry Zeng

TEL：（+86）186-2523-4072

Email：CherryZeng@cinno.com.cn

商务合作：

市场部总监  Ann Bao

TEL：（+86）189-6479-8590

Email：AnnBao@cinno.com.cn

产业咨询：

销售部副总 Venia Yang

TEL：（+86）137-7184-0168

Email：VeniaYang@cinno.com.cn