电容器 | 一文详解MOM、MIM和MOS及其区别

本文原刊登于Ansys.com:《The Difference Between MOM, MIM, and MOS Capacitors

作者: Akanksha Soni | Ansys产品营销经理

编辑整理:Rodger Luo | Ansys 首席应用工程师

从最基本的层面讲,所有电容器都是通过由介电(绝缘)材料隔开的电导体(极板)来储存能量的。当一个极板接收到正电荷,而另一个极板接收到负电荷时,电容器就储存了电荷。电容器种类繁多,用途各异,包括从在数字电路中存储计算机内存,到过滤电子信号中的噪声,再到保护电路的一部分免受另一部分的影响等。

让我们来了解三种常见的模拟集成电路电容器:金属-氧化物-金属(MOM)、金属-绝缘体-金属(MIM)和金属-氧化物-半导体(MOS)电容器。

什么是金属-氧化物-金属(MOM)电容器?

金属-氧化物-金属(MOM)电容器是芯片中的小型多功能器件。它们是由金属层构成的交叉指型(就像两只手十指相扣那样)结构的多指型电容器。标准金属布线(以及可选的过孔——布线电路板上的镀通孔)被用来构成电容器的极板,极板之间的横向(层内)电容耦合效应可产生所需的电容。

与垂直耦合相比,这种横向电容耦合可提供更出色的匹配特性,主要是由于横向尺寸的工艺控制更为精准,不像金属层和介电层厚度那样难以控制。为了提高电容密度,可以使用过孔并联多个金属层,形成垂直金属壁或网格。通常,会在MOM电容器中采用金属线宽和间距最小的最底层金属层(如M1–M5),以最大限度地提高电容密度。

电容器 | 一文详解MOM、MIM和MOS及其区别的图1

金属-氧化物-金属电容器的优势

  • 成本低
  • 电容密度高
  • 出色的射频(RF)特性
  • 出色的匹配特性
  • 无需额外的掩膜层
  • 对称平面结构

金属-氧化物-金属电容器的缺点

  • 下极板寄生效应适中
  • 密度低
  • 串联电感和电阻较高
  • 击穿电压低

金属-氧化物-金属电容器的应用

  • 高速集成电路(IC)
  • 微电子
  • RF和模拟应用
  • 振荡电路

什么是金属-绝缘体-金属(MIM)电容器?

金属-绝缘体-金属(MIM)电容器是另一类具有明显优势的紧凑型电容器。它们类似于平行板电容器,其中金属板(电极)由绝缘材料(介电)隔开。这类电容器具有较高的单位面积电容,因此得到了广泛应用。为了进一步提高电容值,MIM电容器通常由三块板构成,其中两层是标准制造工艺的金属层(通常是最上层),中间是一个特殊金属层。这种独特的布局使MIM电容器能够实现更高的电容密度,同时保持绝缘介电材料的稳定性能和低漏电优势。

电容器 | 一文详解MOM、MIM和MOS及其区别的图2

金属-绝缘体-金属电容器的优势

  • 稳定的电容
  • 单位面积电容高
  • 良好的品质因数
  • 良好的线性特性

金属-绝缘体-金属电容器的缺点

  • 需要特殊工艺来创建掩膜层
  • 成本更高

金属-绝缘体-金属电容器的应用

  • 集成电路(IC)
  • 存储器模块
  • RF和微波器件
  • 光电探测器

什么是金属-氧化物-半导体(MOS)电容器?

金属-氧化物-半导体(MOS)电容器本质上是一种用作电容器的晶体管,其中栅极是电容器的上极板,漏极和源极连接构成下极板,而栅极的薄氧化层是绝缘层。MOS电容器本身并不是一种广泛使用的器件,不过,它是MOS晶体管(金属-氧化物半导体场效应晶体管,简称MOSFET)的组成部分。

MOS电容器的电容值取决于施加在栅极上的直流电压。变化的电压会改变栅极的耗尽区,从而改变介电属性,进而改变电容。MOS电容器在本地电源去耦应用中尤其有用,在这种应用中,直流电压保持恒定。

金属-氧化物-半导体电容器的优势

  • 与MIM电容器相比,单位面积电容更高
  • 栅极绝缘体(SiO2)更薄

金属-氧化物-半导体电容器的缺点

  • 电容变化显著,限制了其工作电压范围
  • 下极板的寄生电阻会影响性能

金属-氧化物-半导体电容器的应用

  • IC
  • 模拟电路
  • 电压参考电路
  • 可调滤波器
电容器 | 一文详解MOM、MIM和MOS及其区别的图3

MOM、MIM和MOS比较

电容器 | 一文详解MOM、MIM和MOS及其区别的图4

利用仿真提取电容

MOM电容器是一种复杂的结构,其体积相当大,由许多超薄 “手指” 结构组成。这些电容器极易受到布局相关效应(LDE)的影响而变形。因此,必须对LDE进行精确建模,以确保计算出MOM电容器的准确模型。在整体布局环境中对MOM电容器进行建模,使设计人员能够预测它们与电路其余部分之间的电容耦合,这对于敏感应用至关重要。然而,使用传统的电磁(EM)求解器并不总能实现这种精度水平。因此,设计人员通常选择将MOM电容器视为分立组件,并将其模型直接连接到测试台进行仿真。

制造MIM电容器是一项更大的挑战,因为在制造过程中需要额外的掩膜层。技术文件中会引入专用的MIM层,以定义和设计MIM电容器。在完整布局环境中对完整的MIM结构进行建模,对于预测电容精度至关重要。

MOM和MIM电容器广泛应用于集成电路,尤其是RF和模拟应用,而使用仿真软件对这些电容器进行准确建模,对于确保电容精度和满足布局方面的匹配要求至关重要。Ansys RaptorH能够提取所有无源器件以及任意布线布局(无论是成熟设计还是正在开发中的布局)的电磁模型。这些组件可以是平面(实心的或者带孔的)、传输线、螺旋电感器和MIM/MOM电容器,它们可以与高速/高频布线一起提取,以计算全耦合电磁模型。此外,凭借自动化的额外优势,使电磁提取任务的设置变得非常简单且快速。

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