设备 | 晶洲装备新建湿制程智能装备项目竣工投产

随着我国平板显示、光伏以及半导体产业的发展，国产湿制程装备的需求日益增长，经过地方政府的考察与认可，2020年晶洲装备投资新建湿制程智能装备生产基地。经过400多天的施工，目前该项目已顺利通过竣工验收。

 

晶洲装备自2011年成立以来，一直专注于平板显示、光伏、半导体领域的高精密湿制程装备的生产及研发，产品主要包括高精密清洗、湿法刻蚀、光阻剥离、显影等高端湿制程设备，至2021年6月，平板显示工艺制程设备累积交付逾200台/套；已交付量产设备对应基板尺寸涵盖G2.5~G8.6。

随着新建湿制程智能装备生产基地的交付使用，制造车间可对应G10.5、G11超大尺寸基板装备制造，机型可对应包括单层I Type、双层I Type、U Type等；实现平板显示全系列基板尺寸装备全覆盖。

 

湿法装备实物示例

 

晶洲装备本次投产的湿制程智能装备生产基地位于江苏省常熟市高新技术产业开发区辛庄工业园，占地40,000平方米，具备年度120台以上中大世代设备的交付能力。

以晶洲装备2018年获得江苏省首台(套)重大装备的G6湿法刻蚀机为例，单台湿法刻蚀机宽4米，高4.5米，长达30米；120台中大世代设备可以摆满两个足球场。

这样一个体积庞大的大型装备，洁净度要求却非常高，设备内部洁净度要求达到Class10，即每立方米空间直径大于0.5微米小于5微米的颗粒物不能超过10个，而人体细胞的平均直径在10-20微米，相当于每立方米空间不能有超过10个细胞大小的颗粒物。

 

微观膜层器件结构及颗粒污染物不良影响示例

 

为了达到这一要求，设备整机装配需要在无尘车间进行；面向平板显示工艺制程设备组装均需在无尘室进行，为了保障装配精度及部品洁净度，新建了两个恒温恒湿加工车间。车间局部区域环境等级达Class100，具备高精密半导体设备的组装及调试条件。

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