PVD涂层技术——了解一下
2021年10月27日 14:24浏览：2407 收藏：1
什么是PVD？
PVD（Physical Vapor Deposition）即物理气相沉积，是当前国际上广泛应用的先进表面处理技术。其工作原理就是在真空条件下，利用气体放电使气体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时，把蒸发物或其反应物沉积在基底上。目前市面上使用最多的PVD技术主要分为磁控溅射镀、多弧离子镀和蒸镀三大类。
01
磁控溅射镀
原理：电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量氩离子和电子，电子飞向基片。氩离子在电场作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子沉积到基层表面形成膜层。
02
多弧离子镀
原理：采用电弧放电的方法，在固体的阴极靶材上直接蒸发金属，蒸发物是从阴极弧光辉点放出的阴极物质的离子，从而在基材表面沉积成为薄膜。
03
蒸镀
原理：在真空条件下，采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料（或称膜料）并使之气化，粒子飞至基片表面凝聚成膜。
PVD的性能？
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