CINNO Research产业资讯，东进世美肯（Dongjin Semichem）投身于“High NA极紫外线(EUV)”用光刻胶(Photoresist，PR)的开发中。High NA EUV是被称为新一代半导体曝光设备的设备，被誉为2纳米以下超细微工艺必备的设备。继国内首次量产全部依赖于进口的半导体EUV PR后，将挑战新一代PR材料的国产化。

根据韩媒ETNews报道，东进世美肯最近制定了High NA EUV PR开发路线图。将从今年下半年启动研发，目标是最快在2025年上半年完成技术开发。公司计划在荷兰半导体设备公司ASML的High NA EUV设备大规模生产之前完成PR开发。

PR是在晶圆上绘制半导体电路的曝光工艺用核心材料。在晶圆上涂布后，经过曝光作业，性质就会发生变化，将成为电路图案的底色。EUV用PR尤其是在绘制高分辨率图案时，是必需的材料。到目前为止，虽然全部依赖于从日本等海外进口，但东进世美肯去年曾首次成功实现EUV PR的国产化。采用纯韩国自有技术，成功开发出了2019年作为日本出口管制三大品种之一的光刻胶，引起业界广泛关注。目前正在向三星电子供货。

新挑战的新产品是配合“High NA EUV”设备的新一代EUV PR材料。High NA EUV是将展现集光能力的镜头开口数(NA)从原来的0.33提高到0.55的设备，是能够绘制超细电路图案的关键设备。三星电子、SK海力士、TSMC、英特尔等尖端半导体企业都决定从ASML引进该设备。ASML是世界上唯一一家能够提供EUV设备和新一代High NA EUV设备的企业。

ASML预计明年出货首台High NA EUV设备。据悉，2026-2027年将实现大规模量产。东进世美肯在High NA EUV市场正式爆发前完成相关PR产品商业化，为抢占市场打下铺垫。

东进世美肯推进多种High NA EUV的PR开发流程。这是因为High NA设备初期的生产效率会下降，影响半导体良率的因素非常多，因此将考虑到多种“变量”，进行产品开发。除了采用少量产生高灵敏度化学反应的化学放大光刻胶(CAR)型外，还考虑到了基于无机物(MOR)的产品。考虑到无机物PR与无机物相比，实现超细微电路的精度更高。

为尽量减少半导体曝光工艺时间，公司还推进改善PR分辨率、图案粗糙度和灵敏度。这些因素左右着PR的品质、是提高半导体生产性的关键因素。

东进世美肯开始开发High NA EUV用PR，预告将与现有的市场领先者一决高下。EUV PR由信越化学、JSR、TOK等日本企业主导。据悉，他们也在开发High NA用PR。

东进世美肯相关人士表示：“材料开发公司必须比零部件、设备公司至少快6个月，才可能被半导体厂商或设备公司采用自己的材料”，并称，“由于新一代EUV设备尚未普及或材料开发需要验证，将通过客户、合作伙伴等获得产品测试机会，并将启动针对High NA EUV设备优化的PR开发的各种流程。”

全球显示及半导体光刻胶市场分析报告

第一章：显示面板正型光刻胶市场分析

---

一、 显示面板光刻胶材料介绍

1.显示面板光刻胶材料分类介绍

2.液晶显示面板用正型光刻胶介绍

3.液晶显示面板用负型光刻胶介绍

4.OLED显示面板用正型光刻胶介绍

二、 2016-2025全球显示面板产能状况及趋势

1.2016-2025全球总体显示面板产能状况及预测

2.2016-2025全球TFT-LCD面板产能占比趋势预测

3.2016-2025全球AMOLED面板产能占比趋势预测

三、 2016-2025全球显示面板用正型光刻胶市场现状及趋势

1.2016-2025全球显示面板正型光刻胶市场容量及预测

2.2016-2025全球显示面板正型光刻胶市场规模及预测

四、 2016-2025全球显示面板用正型光刻胶市场现状及趋势

1.2016-2025中国显示面板产能状况及预测

2.2016-2025中国显示面板正型光刻胶市场容量及预测

3.2016-2025中国显示面板正型光刻胶市场规模及预测

4.2020年全球主要显示面板正型光刻胶材料厂商名录

5.2020年全球显示面板正型光刻胶市场份额分析

第二章：半导体光刻胶市场分析

---

一、 半导体光刻胶材料分类介绍

二、 2016-2025全球晶圆产能状况及预测

三、 2016-2025全球半导体光刻胶市场现状及趋势

1.2016-2025全球半导体正型光刻胶市场容量及预测

2.2016-2025全球半导体正型光刻胶市场规模及预测

3.2020年全球主要半导体光刻胶材料厂商名录 

4.2020年主要半导体G/I线光刻胶材料厂商市场分析

5.2020年主要半导体KrF线光刻胶材料厂商市场分析

6.2020年主要半导体ArF/ArFi光刻胶材料厂商市场分析

第三章：正型光刻胶用光敏剂材料市场分析

---

一、 全球显示面板光刻胶用光敏剂市场现状及趋势

1.2016-2025全球显示面板光刻胶用光敏剂材料市场容量及预测

2.2016-2025全球显示面板光刻胶用光敏剂材料市场规模及预测

二、 中国显示面板光刻胶用光敏剂市场现状及趋势

1.2016-2025中国显示面板光刻胶用光敏剂市场容量及预测

2.2016-2025中国显示面板光刻胶用光敏剂市场规模及预测

三、全球半导体光刻胶用光敏剂市场现状及趋势

1. 2016-2025全球半导体光刻胶用光敏剂材料市场容量及预测

2. 2016-2025全球半导体光刻胶用光敏剂材料市场规模及预测

四、中国半导体光刻胶用光敏剂市场现状及趋势

1. 2016-2025中国半导体光刻胶用光敏剂材料市场容量及预测

2. 2016-2025中国半导体光刻胶用光敏剂材料市场规模及预测

五、全球光敏剂材料供应链及市场分析

1. 全球主要显示面板及半导体光刻胶用光敏剂材料厂商分析

2. 全球主要光刻胶与光敏剂材料厂商供应链关系分析

3. 2020年全球显示面板光刻胶用光敏剂材料市场分析

4. 2020年全球半导体光刻胶光敏剂材料市场分析

5.2020年光刻胶用光敏剂市场价格分析

联系我们

媒体关系：

市场部经理  Cherry Zeng

TEL：（+86）186-2523-4072

Email：CherryZeng@cinno.com.cn

商务合作：

市场部总监  Ann Bao

TEL：（+86）189-6479-8590

Email：AnnBao@cinno.com.cn

产业咨询：

销售部副总 Venia Yang

TEL：（+86）137-7184-0168

Email：VeniaYang@cinno.com.cn

- END -

更多商务合作，欢迎与小编联络！

扫码请备注：姓名+公司+职位

我是CINNO最强小编, 恭候您多时啦！

CINNO于2012年底创立于上海，是致力于推动国内电子信息与科技产业发展的国内独立第三方专业产业咨询服务平台。公司创办十年来，始终围绕泛半导体产业链，在多维度为企业、政府、投资者提供权威而专业的咨询服务，包括但不限于产业资讯、市场咨询、尽职调查、项目可研、管理咨询、投融资等方面，覆盖企业成长周期各阶段核心利益诉求点，在显示、半导体、消费电子、智能制造及关键零组件等细分领域，积累了数百家大陆、台湾、日本、韩国、欧美等高科技核心优质企业客户。