Ansys Lumerical | 光子 PDK 合作代工厂速览

摩尔芯创

2026年1月19日 16:46

随着硅光技术与光子集成电路（PIC）快速发展，半导体代工厂的工艺设计套件（PDK）已成为链接设计与制造的关键桥梁。Ansys Lumerical 多年来与全球多家领先半导体代工厂深度合作，为其 PDK 开发提供高精度仿真能力与验证流程支持，助力客户更快实现可制造、可量产的光子芯片设计。本篇将带你快速了解 Lumerical 已合作的代工厂及其PDK生态。

CompoundTek

Foundry PDK

最新版本：V3.0

发布日期：2022年6月

工艺技术

SOISiNEpitaxial Ge

Ansys Lumerical解决方案

器件设计

使用 Ansys Lumerical process file和layer builder，在 Ansys Lumerical Multiphysics 工具中进行与代工厂兼容的自定义器件设计。在 Cadence Virtuoso 中动态地将设计版图传输到Lumerical Multiphysics 工具中生成 3D 几何体。

线路设计

使用 Lumerical INTERCONNECT 紧凑模型在 INTERCONNECT 中进行电光集成电路设计并与 Virtuoso进行电光联合仿真。使用 Ansys Verilog-A 模型在 Virtuoso 中进行电光集成电路设计与仿真。使用蒙特卡罗分析工具，对采用 INTERCONNECT 和 Verilog-A 模型设计的电路进行基于代工厂工艺变化的良率分析。将 INTERCONNECT 中的电路原理图转换为 GDSFactory 中的线路版图。

更多资源：Blog

GlobalFoundries

Foundry PDK

最新版本：45SPCLO_v1.0_4.1a

发布日期：2024年2月16日

工艺技术

SOISiN

Ansys Lumerical解决方案

器件设计

使用 Ansys Lumerical process file和layer builder，在 Ansys Lumerical Multiphysics 工具中进行与代工厂兼容的自定义器件设计。在 Cadence Virtuoso 中动态地将设计版图传输到 Lumerical Multiphysics 工具中生成 3D 几何体。使用蒙特卡罗分析工具，在 Lumerical Multiphysics 工具中基于制造工艺变化进行良率分析。

线路设计

使用代工厂 PDK 和定制的 Ansys Verilog-A 模型进行电光集成电路设计。

更多资源： Webinar, White Paper, Blog, News

Tower Semiconductor

Foundry PDK

工艺技术

PH18（180nm 硅光）TPS45PH（45nm 硅光）

Ansys Lumerical解决方案

器件设计

使用 Ansys Lumerical process file和layer builder，在 Ansys Lumerical Multiphysics 工具中进行与代工厂兼容的自定义器件设计。在 Cadence Virtuoso 中动态地将设计版图传输到 Lumerical Multiphysics 工具中生成 3D 几何体。

线路设计