专为低导通电阻和高细胞密度应用设计的N沟道功率MOSFET‌-DH090NG-S

相比P沟道,N沟道有几个硬优势:‌导通电阻更低‌,意味着同样电流下发热更少、效率更高。而且载流子是电子,迁移速度快,开关损耗也小。另外,N沟道器件‌更容易制造且成本更低‌,所以市面上常见的功率MOS管大多是N沟道增强型。

N沟道MOSFET靠‌栅极电压‌来控制。当栅极和源极之间加上正电压(通常超过阈值电压,如4V或10V),栅极下方的半导体表面会形成导电沟道,电流就能从漏极流向源极。如果栅极电压不够或者为零,沟道就没形成,电流过不去,相当于开关关了。

专为低导通电阻和高细胞密度应用设计的N沟道功率MOSFET‌-DH090NG-S的图1

工采网代理的N沟道MOSFET-DH090NG-S采用先进的沟槽制造工艺与设计,可在低栅极电荷条件下实现优异的导通电阻(RDS)。适用于电源开关、电机驱动及负载切换等场景。N沟道功率MOSFET‌是一种靠电压控制导通的电子开关,‌主要用在电源管理和电机驱动里‌,因为它导通电阻小、效率高,比P沟道更常见。

器件利用高细胞密度沟槽技术实现了超低的导通电阻,同时保持了低栅极电荷,使其在开关应用中具有高效率。作为绿色设备,它符合环保标准,且其封装设计有利于良好的热耗散,适用于电源管理、电机驱动及各类工业控制场景。

额定参数:‌‌

专为低导通电阻和高细胞密度应用设计的N沟道功率MOSFET‌-DH090NG-S的图2

N沟道MOS管 - DH090NG-S的特性:

VDS=100V,ID=15A,RDS(ON)<100mΩ@VGS=10V

低栅极电荷

符合绿色设备标准,无铅且符合RoHS规范

适用于超低RDS(导通电阻)的先进高细胞密度沟槽技术

散热性能优异的优质产品

核心电气参数:

漏源电压(VDSS):100V

连续漏极电流(ID):15A(在TC=25℃时

导通电阻(RDS(ON)):<100mΩ(@VGS=10V,ID=10A)‌

封装形式:TO-252,标记代码为H090N-S

极限额定值:

栅极电压(VGS):±20V

脉冲漏极电流(IDM):60A

功耗(PD):46W

工作温度范围:-55℃至+150℃

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