2026年墨西哥国际电子元器件及生产设备展 EEI 开展日期:2026年5月26日-28日 主办单位:Vanexpo SA de CV 展会地点:墨西哥城Banamex展览中心 同期举办:墨西哥国际电力及照明展,三驾马车筑起墨西哥电子行业展。 一、展会简介 墨西哥国际电子元器件、电力及生产设备展(Expo Electrica International)由Vanexpo SA de CV主办,每年
01/简介 3D NAND、3D IC等立体集成电路的高密度堆叠需求,推动光刻图形向三维立体化深度演进,传统二维模型已难以适配厚掩模深度衍射及偏振态三维演化的复杂物理过程。高数值孔径(NA>1)光刻系统下,厚掩模的多层结构引发光场多次反射与耦合衍射,叠加三维偏振像差的视场-深度耦合效应,导致关键尺寸均匀性(CDU)与侧壁倾斜度控制精度骤降。 计算三维严格矢量成像模型是破解该瓶颈的核心理论工具,其对
详细信息 求解“Normal termination”,但是后处理过程遇到了以下问题: (1)利用LS-PrePost打开.k和d3plot文件。 弹出对话框“LSPP Question”,内容为“Input file is NOT d3plot format. Do you want to continue?”。选择“Yes”后,软件“可以加载模型但是无法加载动画”或者“闪退”。 (2)利用Hy
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简介 智能制造时期,设备的稳定运行对于各行业的无缝高效生产愈加重要。健康状态监测系统PHM(Prognostics and Health Management)成为保障关键设备稳定运行的有力工具。它通过实时监测和分析设备的状态数据,能够提前预测设备故障,实现对生产设备的精细化管理控制,为企业节约维护保养成本、减少停机时间和提高生产效率提供了重要技术支撑。 PHM系统的核心在于“预测”,而预测需要有